Под ред. Обухова В.И. — Минск: Наука и техника, 1972. – 120 с.
В книге рассматривются методы и принципы формирования автоматических систем контроля с использованием квантовых генераторов для таких параметров полупроводников, как толщина эпитаксиальной пленки, удельное сопротивление, а также параметров, характеризирующих состояние поверхности. Освещаются особености взаимосвязи электромагнитного излучения квантового генератора с полупроводником (отражение, поглощение, преломление), методов и принципов, положенных в основу контроля (интерференции, голографии и т.д.). Дан анализ квантового генератора как элемента систем автоматики.
Параметры контроля полупроводников и диэлектриков в технологическом процессе производства приборов
Оптические методы контроля полупроводников и диэлектриков
Квантовый элемент в системах автоматики
Элементы оптоэлектроники в системах контроля
Некоторые системы контроля полупроводниковых структур