М.: Металлургия, 1992. — 392 с.
Рассмотрена роль химической термодинамики в развитии технологических процессов современной микроэлектроники. Проанализированы наиболее перспективные для прогноза термодинамических свойств модели расплавов. Подробно изложены основные вопросы теории и практики компьютерного моделирования химических и фазовых равновесий в полупроводниковых системах. Рассмотрены р-Т-х диаграммы, их использование в решении проблем управляемого синтеза ряда классов бинарных полупроводников, устойчивость последних в окислительной среде. Приведены данные основных методов исследования полупроводниковых расплавов, термодинамические характеристики химических транспортных реакций и синтеза некоторых тройных магнитных полупроводников.
Предназначена для научных работников и специалистов в области термодинамики и материаловедения полупроводников, физики и химии расплавов и твердого тела.